Проблема проекта

Привнесенные дефекты – это дефекты, появившиеся на кристалле во время всех технологических процессов, приводящие к несовершенству внешнего вида. К примерам таких дефектов относится смаз металлизации, следы механического воздействия (царапины), растрав, следы закреплённых частиц (грязь, пыль). Данные дефекты приводят не только к несовершенству внешнего вида, но и к сбоям в работе кристалла. Подобный брак заметен под микроскопом, но учитывая, что на одной кремниевой пластине может находиться до 900 приборов, распознавание дефектов вручную, может быть достаточно длительным. Разработка и экспериментальная отработка аппаратно-программного комплекса (АПК) по обнаружению дефектов МИС позволит автоматизировать данный технологический процесс, тем самым увеличив общий объем производства.

Цель проекта

Оптимизация аппаратно-программной реализации комплекса обнаружения дефектов монолитных интегральных микросхем (МИС)

Требуемые направления

• Радиотехника (всего мест: 3; осталось мест: 0)

• Любое направление (всего мест: 3; осталось мест: 0)